液態光阻

LIQUID PHOTORESIST

LONGLITE® Liquid Photo Resist為負型、水溶性液態光阻劑,針對滾輪塗佈機台(水平式或垂直式)而設計,具有優異之解像性與密著性,適用於酸性蝕刻印刷電路板製程。

MLB內層線路蝕刻

適於滾塗式設備之印刷電路板(內層無孔板)製程使用。

滾輪塗佈機台(垂直式)

LR-1100V、LR-3500V。

滾輪塗佈機台(水平式)

LR-1300H、LR-3600H。